一、产品概述：

多模式3D光学轮廓仪拥有白光干涉（基于白光干涉的高精度定量共焦技术，自动聚焦技术）、无极自动变焦和膜厚测量三种测量模式，支持自由切换。白光干涉测量模式适用于光滑表面和超高精度精度测量场景，无极自动变焦模式适用于粗糙表面、大斜率、曲面和沟槽轮廓测量，膜厚测量适用于纳米级膜厚厚度测量。

二、产品用途：

DTP5800可快速、准确地获取1nm至10mm高度的样品表面数据，垂直分辨率可达0.1nm,测量精度1nm。DTP5800拥有非接触式无损测量、高分辨率、测量区域宽和效率高等特点。DTP5800提供多种配置的3D光学轮廓仪和开发版测量头，广泛应用于半导体前后道检测，PCB工艺，微纳制造，阳极氧化工艺，盖板喷砂工艺，光学加工等场景，为科研和制造提供符合ISO25178/ISO 4287国际标准的表面粗糙度、平面度、台阶高度、曲率半径和表面体积面积等参数。

三、技术优势

u 三种测量模式自由切换

u 分辨率0.1nm

u 1nm测量精度

u 简单操作易使用

u 测量重复性高

u 支持样品加热等定制功能

u 供应链自主可控

u 上位机实时数据采集存储，预留网口接入客户MES系统

u 上位机软件提供二次开发接口，可根据客户需求进行定制开发

四、测量功能

u 长、宽、高、角度、弧度、台阶高度、曲率半径

u 线粗糙度和面粗糙度、表面波纹度

u 平面度、翘曲度、共面度

u 表面划痕、磨损、缺陷

u 体积、面积

u 透明膜厚

技术参数：

1. 三种工作模式选择：白光干涉测量模式、无极变焦测量模式、膜厚测量模式；

2. 白光干涉测量模式：适用于光滑表面和超高精度测量场景；

3. 无极自动变焦测量模式，适用于大粗糙度、大斜率、曲面和沟槽轮廓测量；

4. 反射光谱膜厚测量模式，适用于纳米级膜厚厚度测量；

5. 干涉物镜：10X（其他型号可选）；

6. 定制型白光LED光源，高亮度，长寿命。提供单色光LED光源选择；

7. Z方向测量量程：压电模式下100μm量程，垂直扫描模式下1nm-10mm量程，采用专利性垂直扫描方式，支持大量程场景下输出高精度测量数据；

8. 薄膜厚度测量范围：50nm-100μm（依赖于使用物镜与样品）；

9. 台阶高度测量重复性：0.1% 1σ

10. 台阶高度准确性：0.5%

11. 粗糙度RMS重复性：0.01nm

12. 垂直分辨率：0.1nm

13. 水平分辨率：0.2μm-1.87μm（依赖于使用物镜）

14. 扫描速度：≥50μm/s

15. 相机分辨率：1360*1024

16. 样品表面聚焦辅助功能

17. 支持测量样品反射率：5%-100%

18. 全自动XY运动平台范围：200*100mm

19. 倾斜调整：±5°

20. Z轴聚焦行程：50mm

自动化分析功能：计算的二维形貌参数包括：偏斜度参数，峰度参数，*大波峰高度参数，自相关长度参数，纹理纵横比参数，纹理方向参数，均方根倾斜度参数，波谷均方根粗糙度参数、表面形态频率谱密度函数、二维形貌参数输出等功能。计算的三维形貌参数包括：偏斜度参数，峰度参数，面积材料反比参数，同一区域材料反比参数，*大波峰高度参数，自相关长度参数，纹理纵横比参数，纹理方向参数，均方根倾斜度参数，展开的界面面积比参数，波峰材料体积参数，核心材料体积参数，核心空间体积参数，上支承面积参数，波谷均方根粗糙度参数，展开面积参数，投影面积参数、表面形态频率谱密度函数等参数功能。